RETC權(quán)威認證！正泰新能ASTRO N7組件UVID220測試結(jié)果低于2%

近日，正泰新能ASTRO N7產(chǎn)品以優(yōu)異表現(xiàn)通過國際權(quán)威機構(gòu)RETC的UVID220測試標準，衰減率低于2%，進一步彰顯正泰新能ASTRO N產(chǎn)品優(yōu)異的抗UVID性能及高可靠性。

今年，RETC在《2024光伏組件指數(shù)報告》中針對紫外線誘導衰減（Ultraviolet induced degradation，UVID）問題發(fā)出警告以來，組件的UVID性能受到行業(yè)內(nèi)廣泛關(guān)注。

此次測試中，ASTRO N7組件暴露于UV220（220 kWh/㎡）輻射等級下，相較于常規(guī)UV15認證標準，組件受到的紫外輻射強度加強了15倍。在這種極端環(huán)境中，ASTRO N7衰減率低于2%，成功通過RETC測試考驗。

在送測RETC之前，正泰新能已經(jīng)推進全系產(chǎn)品的UVID性能測試，同樣取得了優(yōu)異的測試結(jié)果。ASTRO N系列組件暴露于UV60（60 kWh/㎡）的輻射等級下，衰減率僅有0.7%。在UV120（120 kWh/㎡）的超嚴苛條件下，ASTRO N組件依舊保持超低衰減，衰減率僅1.2%。

優(yōu)異的抗UVID性能來源于正泰新能從電池鈍化膜層結(jié)構(gòu)優(yōu)化到整體組件封裝設(shè)計的整體解決方案，不放過每一個提升產(chǎn)品可靠性的細節(jié)。

在電池膜層結(jié)構(gòu)設(shè)計方面，正泰新能采用行業(yè)領(lǐng)先創(chuàng)新的薄膜沉積技術(shù)，可實現(xiàn)電池鈍化膜層均勻性及致密性的精準控制，同時結(jié)合LIF工藝，可有效增強膜層紫外線耐受度，從根源上改善UVID問題。封裝材料方面，正泰新能選用更高可靠性的膠膜封裝方案，進一步降低衰減風險。

不僅如此，嚴格的質(zhì)量檢測體系更是貫穿于正泰新能組件生產(chǎn)的全流程。從原材料檢驗到成品抽檢，100% AI檢測，每一個步驟都遵循最高標準，絕不放過任何一個影響產(chǎn)品可靠性的瑕疵，為產(chǎn)品質(zhì)量提供更有效的監(jiān)控手段，持續(xù)保障產(chǎn)品的高可靠性。

同時，正泰新能積極推動《晶體硅光伏電池片紫外耐受性能測試方法》《晶體硅光伏電池紫外誘導衰減測試方法》等國際及行業(yè)有關(guān)UVID的標準制定，分享自身在抗 UVID 技術(shù)方面的先進經(jīng)驗，推動光伏行業(yè)向更高質(zhì)量、更可靠的方向發(fā)展。

正泰新能始終秉持著以客戶為中心的理念，堅持以創(chuàng)新驅(qū)動發(fā)展，持續(xù)優(yōu)化ASTRO N組件的性能，其發(fā)電性能和高可靠性得到客戶的高度認可。未來，正泰新能會持續(xù)關(guān)注產(chǎn)品可靠性，為廣大客戶締造持久、高效、綠色能量。